全自动晶圆槽式清洗机

全自动晶圆槽式清洗机随着半导体芯片工艺技术的发展，工艺技术节点进入28纳米以及14nm等等级，随着工艺流程的延长以及越趋复杂，每个晶片在整个制造过程中需要**过200道清洗步骤， 晶圆清洗变得加复杂、重要以及富有挑战性； 全自动晶圆槽式清洗机以及工艺也推陈出新，使用新的户物理及化学原理，在满足使用者的工艺需求条件下，也兼顾降低晶圆清洗成本和兼顾环境保护；

减少材料损伤（material loss）；

孔洞的清洗能力；

全自动晶圆槽式清洗机防止晶片结构损伤（pattern damage）；

金属、材料及微粒子的交叉污染 ；

晶圆性改善；

全自动晶圆槽式清洗机的工艺应用

去胶及去胶后清洗

炉管及长膜前清洗

氧化层/氮化硅蚀刻

铜/钛金属蚀刻

聚合物去除

擦片清洗

化学机械研磨后清洗

全自动晶圆槽式清洗机的亮点

可以提供完整的湿法工艺解决方案，及前瞻的技术规划。

设备及工艺已经通过大厂的验。

平台及腔体设计种类多，可满足客户不同条件。

全自动晶圆槽式清洗机多层式结构腔体设计，化学品回收率可以达到95%以上。

自动清洗功能（腔体、排风口、 化学品喷嘴及手臂），可避免交叉污染及减少微粒子。

的自动工艺控制功能（片/批次），可以改善产品的均匀性。

的视觉辨识功能，能立即侦测设备异常，预防产品异常。

IPA 干燥功能，可以减少微粒子及水痕。

全自动晶圆槽式清洗机产品特点：

1、烘干槽：可自主调节，时间与温度，带烘干完成报警通知功能；

2、内胆材质：采用304不锈钢，加厚至2mm，手工氩焊，结实；

3、全自动晶圆槽式清洗机时间可调：1-99分钟/小时可调，可常开；

4、工业级换能器：采用工业震头，力度强劲效果佳，可24小时不间断工作；

5、过滤循环功能：循环利于溶剂，节约成本，清洗效果佳；

6、全自动晶圆槽式清洗机发生器控制系统：立发生器控制系统，操控灵活，可根据用户清洗需求设置调节超声波功率；

7、加热自动恒温系统：20-95度可调，配有不锈钢发热管，加热速度快；

8、设备电源线：采用工业加粗电源线，；

9、记忆功能：设备带有立记忆芯片，时间设置后重新设置；

全自动晶圆槽式清洗机支持非标定制，可提供设计图纸与清洗方案