全自动mask掩膜板清洗机

全自动mask掩膜板清洗机表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分，使得衬底表面存在zui少量的颗粒。化学配比系统设计了zui小的化学试剂的消耗，它提供了程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面完全均匀的分布。这个设计也提供了精确的化学工艺时间的控制，控制超声波去离子水的流量，然后衬底在热氮氛围里旋干。根据用户的应用需要，某些特定选项将有助于设备去除不想要的颗粒和杂质。

具体应用

全自动mask掩膜板清洗机清洗功能：

晶圆片

蓝宝石外延片

晶圆框架上的芯片

显示面板

ITO膜显示材料

全自动mask掩膜板清洗机有图形掩膜和无图形掩膜

掩膜坯料

薄膜式掩膜

接触式掩膜

光刻处理工艺：

SPM剥离

光刻胶涂膜

光刻胶剥离工艺

全自动mask掩膜板清洗机刻蚀：

金属刻蚀（铝，铜，铬，钛）

白骨化清洗：

在晶圆片上和的混合液

红外加热

全自动mask掩膜板清洗机刷洗

兆声清洗

热氮和甩干

产品特点：

针对21英寸外径或15x15英寸的基底

全自动mask掩膜板清洗机巨声环境清洗舱（可配备去离子水, 清洗刷, 热去离子水, 高压去离子水, 热氮气）

化学臂

带化学喷射的可变速清洗刷

触屏用户界面

手动上下载

安全锁和报警器

全自动mask掩膜板清洗机占地尺寸30”D x 26”W 

可选配项：

化学试剂传送单元

白骨化清洗

臭氧发生器

全自动mask掩膜板清洗机氢化发生器

高压双氧单元

氢过氧化物

红外加热

循环装置

机械手上下载单元

带EFEM和SMIF界面的 集群系统

去胶/剥离工艺

带红外加热的NMP滴胶

全自动mask掩膜板清洗机刷洗

兆声清洗

热氮和甩干

CMP溶液清洗：

全自动mask掩膜板清洗机用刷洗和兆声清洗去除CMP颗粒

化学喷射臂

化学喷射罐

为和背面刷洗设计的特殊托盘

可调速的PVA清洗刷

可调的清洗刷/晶圆接触压力

全自动mask掩膜板清洗机刷式化学喷射

带膜/不带膜式掩膜清洗：

全套清洗（*更换保护膜）

全保护膜

全自动mask掩膜板清洗机膜式掩膜清洗工艺

掩膜背面清洗后

兆声清洗

刷式清洗

全自动mask掩膜板清洗机化学清洗

热氮甩干

热氮甩干

全自动mask掩膜板清洗机清洗质量：无mura、水痕、锈斑、脏污，无损伤

UV照射：无发光点

平坦度：≤150微米

Total Pitch变化：≤±2微米

数量：G6标准≤10颗（≥5微米）

全自动mask掩膜板清洗机搬送重复精度：≤±0.5mm

温度稳定性：±1°（60°以内）

设备内部洁净度：Class 100（Particle计数器）

超声波：1、4波段复频超声波，频率可自由切换